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- haohan气相色谱法应用于半导体硅材料制备工艺中碳的测定GC790
详细信息
加工定制：是 品牌：haohan 型号：GC790 测量范围：PPM 测量对象：半导体硅材料制备工艺中碳 控温范围：399 ℃ 功率：2000 w 尺寸：480 mm 重量：45 kg 三氯氢硅：半导体硅材料制备工艺中碳 四氯化硅：四氟化硅 氟化氢：氟气 氯气：氯化氢 室内空气污染物：TVOC 由于大规模集成电路对硅单晶的质量要求十分严格,其中杂质碳的影响不容忽视。在工艺流程中,为了控制碳的污染,对多晶硅制备还原用电解净化氢气以及单晶硅制备所需的高纯氩气分别采用气相色谱法和浓缩色谱法测定量含碳组分。然而对工艺重要中间产品-SiHCl_3中有机物碳的质量控制犹关重要。国外采用化学法直接测定碳量,但对有机物存在形态未能鉴别。
浩瀚色谱有限公司，成功研发出半导体硅材料制备工艺中碳的测定专用气相色谱仪，测定结果满意，欢迎选购。
Haohan GC System 气相色谱仪
现代实验室始终面临各种各样的实际问题，需要采用切实可行的方法予以解决。处理复杂样品基质、保持数据完整性以及满足用户培训需求等问题可能导致大量的时间和资源浪费。
Haohan GC System 气相色谱仪， 是浩瀚为这些问题提供的一款，快速气相色谱仪，在环境，生物，食品，医药，石化，卫生，院校等行业得到应用.
Haohan GC System 气相色谱仪详情：
1. 工作条件
1.1. 温度： 5°C -- 35°C
1.2. 湿度：5 – 85%
1.3. 电源：AC 220±10%；50±0.5Hz
2. 柱温箱
2.1. 温度：室温5°C -- 400°C
2.2. 程序升温：7阶程升，可扩充16阶
2.3. 在5min内，从400°C降温到50°C
2.4. 温度精度：室温每波动1°C ，柱温箱的温度波动＜0.1°C
2.5. 双通道柱流失补偿
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